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美国OAI光刻机Model 200,800MBA,2000,5000
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美国OAI光刻机 5000E
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光刻机
应用。 OAI MODEL 800MBA 双面对准曝光机 曝光模式 接近、软/硬接触、真空接触 掩膜尺寸zei大9"x9" zei大适合200mm晶圆曝光
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OAI 太阳光模拟器
产品概述OAI 太阳光模拟器AAA 指标得到美国国家可再生能源实验室认证。40 多年来,OAI 利用其在光学技术方面的专长,为工业和研究不断生产先进产品。为了更好地为太阳能电池和模块制造商
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光学正面和背面光刻机OAI 800型
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美国OAI边缘曝光机2000SM,2000AF
OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光系统(2000SM)或曝光系统(2000AF);这两种配置都基于OAI经过验证的,经过时间测试的平台。
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美国OAI全自动上侧或后侧光刻机6000 FSA
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美国OAI光刻机Model 200,800MBA,2000,5000
:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型
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梅特勒托利多 CPL,5000G, 200G,ASTM,4,4,C
CPL,5000G, 200G,ASTM,4,4,CCarePac 系列.节约成本两个砝码满足常规测试,无需使用整套砝码组。备选第三砝码CarePacs为自定义测试(例如最小称量)提供可选的第三个
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梅特勒托利多 移液器套装 移液器套装 PL-LTS 200,1000,5000μL
移液器套装 PL-LTS 200,1000,5000μL开始移液的较佳设置.入门套件包括3支LTS Pipet-Lite XLS+手动单道移液器(200ul、1000ul、5000ul)、1个
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